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ALD 溶融石英台座

中国のプロの ALD 溶融石英ペデスタル製品メーカーおよびサプライヤーとして、VeTek Semiconductor ALD 溶融石英ペデスタルは、原子層堆積 (ALD)、低圧化学蒸着 (LPCVD)、および拡散ウェハプロセスでの使用向けに特別に設計されており、ウェーハ表面上に薄膜を均一に堆積します。さらにお問い合わせをお待ちしております。

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VeTek Semiconductorは、中国のALDサセプタ、CVD SiCコーティング、CVD TAC COATINGグラファイトベースの専門メーカーです。 Vetek Semiconductor は、ALD プロセスの高い要件を満たし、基板上に空気の流れを均一に分散するために、ALD システムメーカーと共同で SiC コーティングされた ALD プラネタリベースを開発および製造しました。今後ともご協力をよろしくお願いいたします。

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SiCコーティングALDサセプタ

中国の専門的な SiC コーティング ALD サセプタメーカーおよびサプライヤーである VeTek Semiconductor の SiC コーティング ALD サセプタは、原子層堆積 (ALD) プロセスで特に使用されるサポートコンポーネントです。これは ALD 装置において重要な役割を果たし、堆積プロセスの均一性と精度を保証します。当社は、ALD プラネタリーサセプター製品が高品質の製品ソリューションを提供できると信じています。

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ALD 遊星サセプター

ALDプロセスとは、Atomic Layer Epitaxyプロセスを意味します。 Vetek Semiconductor と ALD システムメーカーは、基板上に気流を均一に分配する ALD プロセスの高い要件を満たす、SiC コーティングされた ALD プラネタリサセプタを開発および製造しました。同時に、Vetek Semiconductor の高純度 CVD SiC コーティングにより、プロセスの純度が保証されます。私たちとの協力について話し合うことを歓迎します。

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ALD 溶融石英台座

ALD受容体

SiCコーティングALDサセプタ

ALD 遊星サセプター