中国炭化ケイ素コーティングメーカー、サプライヤー、工場

VeTek Semiconductor は超高純度の炭化ケイ素コーティング製品の製造を専門とし、これらのコーティングは精製グラファイト、セラミック、高融点金属コンポーネントに適用されるように設計されています。

当社の高純度コーティングは、主に半導体およびエレクトロニクス産業での使用をターゲットとしています。これらは、ウェーハキャリア、サセプタ、および加熱要素の保護層として機能し、MOCVD や EPI などのプロセスで遭遇する腐食性および反応性環境からそれらを保護します。これらのプロセスは、ウェーハ処理とデバイス製造に不可欠です。さらに、当社のコーティングは、高真空、反応性、酸素環境にさらされる真空炉やサンプル加熱での用途に適しています。

VeTek Semiconductor では、高度な機械工場の機能を備えた包括的なソリューションを提供します。これにより、グラファイト、セラミック、または高融点金属を使用して基本コンポーネントを製造し、社内で SiC または TaC セラミックコーティングを適用することが可能になります。また、お客様支給部品の塗装サービスも行っており、多様なニーズに柔軟に対応いたします。

当社の炭化ケイ素コーティング製品は、Siエピタキシー、SiCエピタキシー、MOCVDシステム、RTP/RTAプロセス、エッチングプロセス、ICP/PSSエッチングプロセス、青色および緑色LED、UV LED、深紫外を含むさまざまなタイプのLEDのプロセスで広く使用されています。 LPE、Aixtron、Veeco、Nuflare、TEL、ASM、Annialsys、TSIなどの機器に適合するLEDなど。

私たちができるリアクター部品:

炭化ケイ素コーティングにはいくつかのユニークな利点があります。

Silicon Carbide Coating several unique advantages

VeTek 半導体炭化ケイ素コーティングパラメータ:

CVD SiCコーティングの基本物性
財産	代表値
結晶構造	FCC β 相多結晶、主に (111) 配向
密度	3.21 g/cm3
硬度	ビッカース硬度 2500（500g荷重）
粒径	2～10μm
化学純度	99.99995%
熱容量	640 J·kg-1·K-1
昇華温度	2700℃
曲げ強度	415MPa RT 4点
ヤング率	430 Gpa 4pt曲げ、1300℃
熱伝導率	300W・m-1・K-1
熱膨張(CTE)	4.5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

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MOCVD用SiCコートサテライトカバー

中国の MOCVD 製品用 SiC コーティングサテライトカバーの大手メーカーおよびサプライヤーとして、Vetek Semiconductor の MOCVD 製品用 SiC コーティングサテライトカバーは、極度の高温耐性、優れた耐酸化性、優れた耐食性を備えており、高品質のエピタキシャルを確保する上でかけがえのない役割を果たしています。ウェーハ上での成長。さらにお問い合わせをお待ちしております。

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ソリッドSiC円盤型シャワーヘッド

VeTek Semiconductor は、中国の大手半導体装置メーカーであり、固体 SiC ディスク型シャワーヘッドの専門メーカーおよびサプライヤーです。当社のディスク型シャワーヘッドは、反応ガスの均一な分布を確保するためにCVDプロセスなどの薄膜堆積生産で広く使用されており、CVD炉の中核コンポーネントの1つです。

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CVD SiC コーティングされたウェーハバレルホルダー

CVD SiC コーティングウェーハバレルホルダーはエピタキシャル成長炉の重要なコンポーネントであり、MOCVD エピタキシャル成長炉で広く使用されています。 VeTek Semiconductor は、高度にカスタマイズされた製品を提供します。 CVD SiC コーティングウェーハバレルホルダーのニーズが何であっても、ぜひご相談ください。

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CVD SiCコーティングバレルサセプタ

VeTek Semiconductor CVD SiC コーティングバレルサセプタは、バレル型エピタキシャル炉のコアコンポーネントです。CVD SiC コーティングバレルサセプタの助けにより、エピタキシャル成長の量と品質が大幅に向上します。VeTek Semiconductor は、SiC コーティングの専門メーカーおよびサプライヤーです。 VeTek Semiconductor は、半導体業界でお客様との緊密な協力関係を確立することを楽しみにしています。

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CVD SiC コーティングウェーハエピサセプタ

VeTek Semiconductor CVD SiC コーティングウェーハエピサセプタは、SiC エピタキシー成長に不可欠なコンポーネントであり、優れた熱管理、耐薬品性、寸法安定性を提供します。 VeTek Semiconductor の CVD SiC コーティングウェハ Epi サセプタを選択することで、MOCVD プロセスのパフォーマンスが向上し、製品の品質が向上し、半導体製造業務の効率が向上します。さらにお問い合わせをお待ちしております。

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CVD SiCコーティンググラファイトサセプタ

VeTek Semiconductor CVD SiC コーティンググラファイトサセプタは、エピタキシャル成長やウェーハ処理などの半導体産業における重要なコンポーネントの 1 つです。 MOCVD などの装置で使用され、ウェーハやその他の高精度材料の処理とハンドリングをサポートします。 VeTek Semiconductor は、中国有数の SiC コーティンググラファイトサセプタおよび TaC コーティンググラファイトサセプタの生産および製造能力を備えており、お客様のご相談をお待ちしております。

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中国の専門的な炭化ケイ素コーティングメーカーおよびサプライヤーとして、当社は独自の工場を持っています。お住まいの地域の特定のニーズを満たすためにカスタマイズされたサービスが必要な場合でも、高度で耐久性のある中国製の炭化ケイ素コーティングを購入したい場合でも、メッセージを残していただけます。

中国 炭化ケイ素コーティング メーカー、サプライヤー、工場

私たちができるリアクター部品:

炭化ケイ素コーティングにはいくつかのユニークな利点があります。

VeTek 半導体炭化ケイ素コーティングパラメータ:

MOCVD用SiCコートサテライトカバー

ソリッドSiC円盤型シャワーヘッド

CVD SiC コーティングされたウェーハバレルホルダー

CVD SiCコーティングバレルサセプタ

CVD SiC コーティング ウェーハ エピ サセプタ

CVD SiCコーティンググラファイトサセプタ

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CVD SiC コーティングウェーハエピサセプタ