CVD SiCコーティンググラファイトサセプタ

VeTek Semiconductor CVD SiC コーティンググラファイトサセプタは、エピタキシャル成長やウェーハ処理などの半導体産業における重要なコンポーネントの 1 つです。 MOCVD などの装置で使用され、ウェーハやその他の高精度材料の処理とハンドリングをサポートします。 VeTek Semiconductor は、中国有数の SiC コーティンググラファイトサセプタおよび TaC コーティンググラファイトサセプタの生産および製造能力を備えており、お客様のご相談をお待ちしております。

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製品説明

CVD SiC コーティンググラファイトサセプターは、半導体産業における高精度製造用に特別に設計されています。グラファイト基板にCVD法により高純度SiC層をコーティングすることで、耐高温性、耐食性、耐酸化性に優れ、高温・真空環境下でも長期間安定して動作します。このペデスタルは、MOCVD、PECVD、PVD、その他の装置で広く使用されており、ウェーハやその他の高精度材料の処理とハンドリングをサポートします。

主な利点:

● 高温安定性：高純度グラファイト自体が熱安定性に優れています。 SiCコーティングでコーティングされた後は、より高温の極端な環境に耐えることができ、半導体プロセスの高温プロセスに適しています。
● コロスイオン抵抗: CVD SiC コーティングは酸およびアルカリ腐食に耐性があり、CVD プロセスで長寿命を実現できます。
● 高 h硬度と耐酸化性：CVD SiCコーティングは硬度、耐傷性、高温での耐酸化性に優れ、材料の安定性を維持します。
● 良好な熱伝導性：グラファイト基板とCVD SiCコーティングサセプターの組み合わせにより、ベースの熱伝導率が優れており、効果的に熱を伝導し、生産効率を向上させることができます。

製品仕様:

● 材料：グラファイト基板+CVD SiCコーティング
● 膜厚: 顧客のニーズに応じてカスタマイズ可能
● 適用環境：高温、真空、腐食性ガス環境

カスタマイズされたサービス:

当社は、お客様のさまざまな装置やプロセスのニーズを満たす高度にカスタマイズされたサービスを提供します。お客様の特定の用途に応じて、コーティングの厚さ、表面処理、精度レベルが異なるグラファイトベースを提供できます。

VeTekSemi は常に CVD 炭化ケイ素コーティング業界に取り組んでおり、業界をリードする CVD SiC コーティンググラファイトベースの生産および製造レベルを持っています。さらに詳しい製品情報やカスタマイズされたサービスが必要な場合は、VeTek Semiconductor にご連絡ください。誠心誠意専門的なサポートを提供いたします。