VeTek Semiconductor は超高純度の炭化ケイ素コーティング製品の製造を専門とし、これらのコーティングは精製グラファイト、セラミック、高融点金属コンポーネントに適用されるように設計されています。
当社の高純度コーティングは、主に半導体およびエレクトロニクス産業での使用をターゲットとしています。これらは、ウェーハ キャリア、サセプタ、および加熱要素の保護層として機能し、MOCVD や EPI などのプロセスで遭遇する腐食性および反応性環境からそれらを保護します。これらのプロセスは、ウェーハ処理とデバイス製造に不可欠です。さらに、当社のコーティングは、高真空、反応性、酸素環境にさらされる真空炉やサンプル加熱での用途に適しています。
VeTek Semiconductor では、高度な機械工場の機能を備えた包括的なソリューションを提供します。これにより、グラファイト、セラミック、または高融点金属を使用して基本コンポーネントを製造し、社内で SiC または TaC セラミック コーティングを適用することが可能になります。また、お客様支給部品の塗装サービスも行っており、多様なニーズに柔軟に対応いたします。
当社の炭化ケイ素コーティング製品は、Siエピタキシー、SiCエピタキシー、MOCVDシステム、RTP/RTAプロセス、エッチングプロセス、ICP/PSSエッチングプロセス、青色および緑色LED、UV LED、深紫外を含むさまざまなタイプのLEDのプロセスで広く使用されています。 LPE、Aixtron、Veeco、Nuflare、TEL、ASM、Annialsys、TSIなどの機器に適合するLEDなど。
CVD SiCコーティングの基本物性 | |
財産 | 代表値 |
結晶構造 | FCC β 相多結晶、主に (111) 配向 |
密度 | 3.21 g/cm3 |
硬度 | ビッカース硬度 2500(500g荷重) |
粒径 | 2~10μm |
化学純度 | 99.99995% |
熱容量 | 640 J·kg-1·K-1 |
昇華温度 | 2700℃ |
曲げ強度 | 415MPa RT 4点 |
ヤング率 | 430 Gpa 4pt曲げ、1300℃ |
熱伝導率 | 300W・m-1・K-1 |
熱膨張(CTE) | 4.5×10-6K-1 |
中国の VEECO MOCVD サセプタ製品の大手メーカーおよびサプライヤーである VeTek Semiconductor の MOCVD サセプタは、革新性と卓越したエンジニアリングの頂点を表しており、現代の半導体製造プロセスの複雑な要件を満たすように特別にカスタマイズされています。さらにお問い合わせをお待ちしております。
続きを読むお問い合わせを送信中国の炭化ケイ素ウェーハ チャック製品の大手メーカーおよびサプライヤーとして、VeTek Semiconductor の炭化ケイ素ウェーハ チャックは、その優れた高温耐性、耐化学腐食性、および熱衝撃耐性により、エピタキシャル成長プロセスにおいてかけがえのない役割を果たしています。さらなるご相談を歓迎いたします。
続きを読むお問い合わせを送信VeTek Semiconductor は、中国における炭化ケイ素シャワーヘッド製品の大手メーカーおよびサプライヤーです。 SiC シャワーヘッドは、優れた高温耐性、化学的安定性、熱伝導率、良好なガス分散性能を備えており、均一なガス分散を実現し、膜品質を向上させることができます。したがって、通常は化学気相成長 (CVD) や物理気相成長 (PVD) プロセスなどの高温プロセスで使用されます。さらなるご相談を歓迎いたします。
続きを読むお問い合わせを送信中国の炭化ケイ素シールリングの専門メーカーおよび工場として、VeTek Semiconductor 炭化ケイ素シールリングは、その優れた耐熱性、耐食性、機械的強度、熱伝導性により、半導体処理装置で広く使用されています。これは、CVD、PVD、プラズマエッチングなどの高温および反応性ガスを伴うプロセスに特に適しており、半導体製造プロセスにおける重要な材料の選択です。さらにお問い合わせをお待ちしております。
続きを読むお問い合わせを送信VeTek Semiconductor は、中国における SiC コーティングされたウェーハ ホルダー製品の専門メーカーおよびリーダーです。 SiCコーティングウェーハホルダーは、半導体プロセスにおけるエピタキシープロセス用のウェーハホルダーです。ウェーハを安定させ、エピタキシャル層の均一な成長を保証する、かけがえのないデバイスです。さらなるご相談を歓迎いたします。
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