VeTek Semiconductor は超高純度の炭化ケイ素コーティング製品の製造を専門とし、これらのコーティングは精製グラファイト、セラミック、高融点金属コンポーネントに適用されるように設計されています。
当社の高純度コーティングは、主に半導体およびエレクトロニクス産業での使用をターゲットとしています。これらは、ウェーハ キャリア、サセプタ、および加熱要素の保護層として機能し、MOCVD や EPI などのプロセスで遭遇する腐食性および反応性環境からそれらを保護します。これらのプロセスは、ウェーハ処理とデバイス製造に不可欠です。さらに、当社のコーティングは、高真空、反応性、酸素環境にさらされる真空炉やサンプル加熱での用途に適しています。
VeTek Semiconductor では、高度な機械工場の機能を備えた包括的なソリューションを提供します。これにより、グラファイト、セラミック、または高融点金属を使用して基本コンポーネントを製造し、社内で SiC または TaC セラミック コーティングを適用することが可能になります。また、お客様支給部品の塗装サービスも行っており、多様なニーズに柔軟に対応いたします。
当社の炭化ケイ素コーティング製品は、Siエピタキシー、SiCエピタキシー、MOCVDシステム、RTP/RTAプロセス、エッチングプロセス、ICP/PSSエッチングプロセス、青色および緑色LED、UV LED、深紫外を含むさまざまなタイプのLEDのプロセスで広く使用されています。 LPE、Aixtron、Veeco、Nuflare、TEL、ASM、Annialsys、TSIなどの機器に適合するLEDなど。
CVD SiCコーティングの基本物性 | |
財産 | 代表値 |
結晶構造 | FCC β 相多結晶、主に (111) 配向 |
密度 | 3.21 g/cm3 |
硬度 | ビッカース硬度 2500(500g荷重) |
粒径 | 2~10μm |
化学純度 | 99.99995% |
熱容量 | 640 J·kg-1·K-1 |
昇華温度 | 2700℃ |
曲げ強度 | 415MPa RT 4点 |
ヤング率 | 430 Gpa 4pt曲げ、1300℃ |
熱伝導率 | 300W・m-1・K-1 |
熱膨張(CTE) | 4.5×10-6K-1 |
VeTek Semiconductor は、LPE ハーフムーン SiC EPI リアクター製品の専門メーカー、イノベーター、中国のリーダーです。 LPE ハーフムーン SiC EPI リアクターは、主に半導体産業で使用される、高品質の炭化ケイ素 (SiC) エピタキシャル層を製造するために特別に設計されたデバイスです。 VeTek Semiconductor は、半導体業界に最先端の技術と製品ソリューションを提供することに尽力しており、さらなるお問い合わせをお待ちしております。
続きを読むお問い合わせを送信中国の Aixtron MOCVD サセプタの専門メーカーおよびサプライヤーとして、Vetek Semiconductor の Aixtron MOCVD サセプタは、半導体製造の薄膜堆積プロセス、特に MOCVD プロセスに広く使用されています。 Vetek Semiconductor は、高性能 Aixtron MOCVD サセプタ製品の製造と供給に重点を置いています。お問い合わせを歓迎します。
続きを読むお問い合わせを送信中国の炭化ケイ素セラミックコーティンググラファイトヒーターの専門メーカーおよびサプライヤーとして、炭化ケイ素セラミックコーティンググラファイトヒーターは、グラファイト基板で作られ、その表面にシリコンカーボンセラミック(SiC)コーティングが施された高性能ヒーターです。この製品は複合材料設計により、半導体製造において優れた加熱ソリューションを提供します。お問い合わせを歓迎します。
続きを読むお問い合わせを送信VeTek Semiconductor は、中国の炭化ケイ素セラミック コーティング ヒーターの専門メーカーです。炭化ケイ素セラミックコーティングヒーターは、主に半導体製造の高温および過酷な環境向けに設計されています。超高融点、優れた耐食性、優れた熱伝導性により、半導体製造プロセスに不可欠な製品です。私たちは、あなたと長期的なビジネス関係を築くことを心から願っています。
続きを読むお問い合わせを送信中国の炭化ケイ素セラミック コーティングの専門メーカーおよびサプライヤーとして、Vetek Semiconductor の炭化ケイ素セラミック コーティングは、特に CVD および PECVD プロセスが関与する場合、半導体製造装置の主要コンポーネントに広く使用されています。お問い合わせを歓迎します。
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