SiCシャワーヘッド

当社の工場からSiCシャワーヘッドを安心して購入できます。

炭化ケイ素材料は、優れた熱的、電気的、化学的特性の独自の組み合わせを備えており、高性能材料が必要とされる半導体産業の用途に最適です。

VeTek Semiconductor の革新的な技術により、化学蒸着プロセスを通じて作成された超高純度の炭化ケイ素材料である SiC シャワー ヘッドの製造が可能になりました。

SiC シャワー ヘッドは、半導体製造における重要なコンポーネントであり、特に MOCVD システム、シリコン エピタキシー、SiC エピタキシー プロセス向けに設計されています。このコンポーネントは堅牢な固体炭化ケイ素 (SiC) で作られており、プラズマ処理や高温用途の極端な条件に耐えることができます。

炭化ケイ素 (SiC) は、高い熱伝導率、耐化学的腐食性、優れた機械的強度で知られており、SiC シャワー ヘッドなどのバルク SiC コンポーネントに理想的な材料です。ガス シャワー ヘッドは、高品質のエピタキシャル層の製造に不可欠なプロセス ガスをウェーハ表面に均一に分散させます。フォーカス リングとエッジ リングは、CVD-SiC で作られることが多く、均一なプラズマ分布を維持し、チャンバーを汚染から保護し、エピタキシャル成長の効率と歩留まりを高めます。

正確なガス流量制御と優れた材料特性を備えた SiC シャワー ヘッドは、現代の半導体プロセスの重要なコンポーネントであり、シリコン エピタキシーおよび SiC エピタキシーの高度なアプリケーションをサポートします。

VeTek Semiconductor は、低抵抗率の焼結炭化ケイ素半導体シャワー ヘッドを提供しています。当社は、さまざまな独自の機能を活用して、高度なセラミック材料をカスタム設計して供給する能力を備えています。

SiC シャワーヘッドの製品パラメータ:

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