ソリッドSiCガスシャワーヘッド

ソリッドSiCガスシャワーヘッド

VeTek Semiconductor は、研究、生産、販売を専門とする総合企業です。 20 年以上の経験を持つ当社のチームは、SiC、TaC コーティング、および CVD ソリッド SiC を専門としています。固体SiCガスシャワーヘッドの購入へようこそ。

VeTek Semiconductor 固体 SiC ガス シャワー ヘッドは、半導体 CVD プロセス中に前駆体ガスを基板表面に均一に分配するために一般的に使用されます。シャワーヘッドに CVD-SiC 材料を使用すると、いくつかの利点があります。高い熱伝導率により、CVD プロセスで発生する熱を放散し、基板上の均一な温度分布を確保します。さらに、ソリッド SiC ガス シャワー ヘッドの化学的安定性により、CVD プロセスで一般的に遭遇する腐食性ガスや過酷な環境に耐えることができます。 CVD-SiC シャワーヘッドの設計は、特定の CVD システムおよびプロセス要件に合わせて調整できます。ただし、これらは通常、一連の精密な穴またはスロットを備えたプレートまたはディスク状のコンポーネントで構成されます。穴のパターンと形状は、基板表面全体に均一なガス分布と流速を確保するために慎重に設計されています。

固体SiCの物性

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