VeTek Semiconductor が提供する高純度多孔質グラファイトは、最先端の半導体加工材料です。熱伝導率、化学的安定性、機械的強度に優れた高純度カーボン素材を使用しています。この高純度ポーラスグラファイトは単結晶SiCの成長プロセスにおいて重要な役割を果たします。 VeTek Semiconductor は、高品質の製品を競争力のある価格で提供することに尽力しており、中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。
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VeTek Semiconductor 高純度多孔質グラファイトは、半導体炉内の極端な温度に耐えることができる耐熱材料の傑作です。優れた耐久性と長寿命により、交換回数とダウンタイムが少なくなり、長期的には大幅なコスト削減につながります。
当社は最高品質の炭素源から高純度の多孔質グラファイトを製造し、不純物と汚染のリスクを最小限に抑えます。この高純度は、より高い歩留まりと優れた半導体デバイス性能を意味します。
高純度多孔質グラファイトを選択してください。その卓越した熱安定性により一貫したパフォーマンスが確保され、重要な半導体プロセスに最適です。
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多孔質黒鉛の代表的な物性 | |
アイテム | パラメータ |
かさ密度 | 0.89g/cc |
圧縮強度 | 8.27MPa |
曲げ強度 | 8.27MPa |
抗張力 | 1.72MPa |
比抵抗 | 130Ω-inX10-5 |
気孔率 | 50% |
平均細孔径 | 70um |
熱伝導率 | 12W/M*K |