多孔質黒鉛
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多孔質黒鉛

VeTek Semiconductor は、中国の多孔質グラファイト、CVD SiC コーティング、CVD TAC COATING グラファイト サセプターの専門メーカーです。実際、ポーラスグラファイトは半導体製造プロセスの消耗品の中核として、結晶成長、ドーピング、アニーリングなどの複数のリンクにおいてかけがえのない役割を果たしています。 VeTek Semiconductor は、競争力のある価格で高品質の製品を提供することに尽力しており、中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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製品説明

プロフェッショナルとして多孔質黒鉛メーカー中国では、多孔質黒鉛VeTek Semiconductor が製造する半導体製品は、半導体製造プロセスにおける重要な消耗品であり、その性能は半導体デバイスの品質と信頼性に直接影響します。さらにご相談を歓迎します。


ヴェテック・セミコンダクター多孔質黒鉛は、半導体プロセスにおいて次のようなかけがえのない役割を果たします。


高温溶解容器: ポーラスグラファイトの融点が高いため、半導体材料の高温溶融プロセスに耐えることができ、多孔質構造により気泡の発生が効果的に抑制され、溶融物の高純度が保証されます。


大気保護キャリア: 多孔質グラファイトは比較的安定した不活性雰囲気を提供し、溶融物と外部環境との接触を減らし、酸化や汚染を回避します。


熱媒体:ポーラスグラファイトの優れた熱伝導率により、溶融温度の均一な分布が保証され、結晶の均一な成長に役立ちます。


サポートと固定: グラファイトるつぼは溶融物を安定してサポートし、変形を防ぎます。


ガス拡散チャネル: 多孔質グラファイトの構造は、溶融物中に生成されたガスの拡散チャネルを提供し、ガス圧力を低下させ、結晶欠陥を回避するのに役立ちます。


の専門メーカーとしてGaN on SiC エピアクセプタ, 多孔質黒鉛そしてTaCコーティングプレート中国では、VeTek Semiconductor は常にカスタマイズされた製品サービスを提供することにこだわり、業界に最高の技術と製品ソリューションを提供することに尽力しています。皆様のご相談を心よりお待ちしております。


多孔質黒鉛物理的性質:



多孔質黒鉛の製造工場:



半導体チップエピタキシー産業チェーンの概要


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