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三花弁黒鉛るつぼ

三花弁黒鉛るつぼ

VeTek Semiconductor の三花弁グラファイトるつぼは、半導体材料の熱処理、特に単結晶の製造のために設計された特別な容器です。半導体デバイスの製造に必要な単結晶構造の成長を制御する上で重要な役割を果たします。 VeTek Semiconductor は、中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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ウルトラピュアグラファイト下半月

ウルトラピュアグラファイト下半月

VeTek Semiconductor は、中国におけるカスタマイズされた超高純度グラファイト ローワー ハーフムーンの大手サプライヤーであり、長年にわたり先端材料を専門としています。当社の超高純度グラファイト ローワー ハーフムーンは、SiC エピタキシャル装置用に特別に設計されており、優れた性能を保証します。超高純度の輸入グラファイトで作られており、信頼性と耐久性を備えています。中国の工場を訪れて、高品質のウルトラピュアグラファイトローワーハーフムーンを直接ご覧ください。

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上半月部SiCコート

上半月部SiCコート

VeTek Semiconductor は、中国でカスタマイズされたアッパーハーフムーン部品の SiC コーティングの大手サプライヤーであり、20 年以上にわたり先端材料を専門としています。 VeTek Semiconductor 上部ハーフムーン部品 SiC コーティングは、SiC エピタキシャル装置用に特別に設計されており、反応チャンバーの重要なコンポーネントとして機能します。超高純度の半導体グレードのグラファイトで作られており、優れたパフォーマンスを保証します。ぜひ中国の工場を訪問してください。

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炭化ケイ素エピタキシーウェーハキャリア

炭化ケイ素エピタキシーウェーハキャリア

VeTek Semiconductor は、中国のカスタマイズされた炭化ケイ素エピタキシー ウェーハ キャリアの大手サプライヤーです。当社は 20 年以上、先端材料に特化してきました。当社は、SiC 基板を搬送し、SiC エピタキシャル リアクターで SiC エピタキシー層を成長させるための炭化ケイ素エピタキシー ウェーハ キャリアを提供しています。この炭化ケイ素エピタキシーウェーハキャリアは、半月部分の耐高温性、耐酸化性、耐摩耗性の重要なSiCコーティング部分です。中国の工場を訪問することを歓迎します。

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高純度多孔質黒鉛

高純度多孔質黒鉛

VeTek Semiconductor が提供する高純度多孔質グラファイトは、最先端の半導体加工材料です。熱伝導率、化学的安定性、機械的強度に優れた高純度カーボン素材を使用しています。この高純度ポーラスグラファイトは単結晶SiCの成長プロセスにおいて重要な役割を果たします。 VeTek Semiconductor は、高品質の製品を競争力のある価格で提供することに尽力しており、中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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SiC コーティング MOCVD サセプタ

SiC コーティング MOCVD サセプタ

VeTek Semiconductor の SiC コーティング MOCVD サセプタは、優れたプロセス、耐久性、信頼性を備えたデバイスです。高温や化学的環境にも耐え、安定した性能と長寿命を維持することで、交換やメンテナンスの頻度を減らし、生産効率を向上させます。当社の MOCVD エピタキシャル サセプタは、高密度、優れた平坦性、優れた熱制御で知られており、過酷な製造環境で推奨される装置となっています。ご協力をお待ちしております。

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