グラファイト熱場

Vetek Semiconductor のグラファイト熱フィールドは、単結晶シリコンの成長プロセスに不可欠なコンポーネントです。当社の高純度グラファイト熱場は、結晶品質と成長効率を最適化するように設計されています。優れた耐熱性、高温での寸法安定性、および熱衝撃耐性を備えた当社のグラファイトサーマルフィールドは、半導体業界で広く使用されています。

単結晶炉の主な製品:

グラファイトるつぼ (例: 3 ピースるつぼ)

グラファイト発熱体

グラファイト電極

グラファイトサポートロッド

絶縁シリンダー

当社のるつぼやヒーターを含むグラファイト発熱体は、高温処理において優れた熱分布を実現するために、迅速かつ効率的な熱伝達を実現します。単結晶シリコン引き上げプロセスのさまざまな要件を満たします。

グラファイト熱場の応用:

材料処理：高性能材料製造のための高温焼結、溶解、熱処理。

エネルギー部門: 太陽電池、燃料電池、および効率的なエネルギー変換のためのその他のエネルギー装置の製造。

環境保護: 産業廃棄物ガスと液体の処理とリサイクル、および廃棄物焼却プロジェクト。

化学産業: 化学反応の加熱と触媒、および実験室での研究作業。

Vetek Semiconductor のグラファイト熱フィールドは、急速加熱、均一な温度分布、エネルギー効率、費用対効果などの大きな利点を提供します。これらのメリットにより、生産効率が向上し、コストが削減され、工業生産と環境保護プロジェクトに重要なサポートが提供されます。

生産ショップ：

半導体チップのエピタキシー産業チェーンの概要: