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SiC コーティングサセプタ
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SiC コーティングサセプタ

Vetek Semiconductor は、CVD SiC コーティングと CVD TaC コーティングの研究開発と工業化に重点を置いています。 SiCコーティングサセプタを例にとると、製品は高精度、緻密なCVD SICコーティング、高温耐性、強力な耐食性で高度に加工されています。弊社へのお問い合わせは大歓迎です。

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製品説明

当社の工場からSiCコーティングサセプターを安心して購入できます。

VeTek Semiconductor は CVD SiC コーティング メーカーとして、高純度グラファイト製の SiC コーティング サセプターと SiC コーティング サセプター (5ppm 以下) を提供したいと考えています。お問い合わせを歓迎します。

Vetek Semiconductor では、技術の研究、開発、製造に特化し、業界向けにさまざまな先進製品を提供しています。当社の主な製品ラインには、CVD SiC コーティング + 高純度グラファイト、SiC コーティング サセプタ、半導体石英、CVD TaC コーティング + 高純度グラファイト、硬質フェルトなどがあります。

当社の主力製品の 1 つは、エピタキシャル ウェーハ製造の厳しい要件を満たす革新的な技術で開発された SiC コーティング サセプタです。エピタキシャル ウェーハは、厳密な波長分布と低い表面欠陥レベルを示す必要があるため、当社の SiC コーティング サセプタは、これらの重要なパラメータを達成するために不可欠なコンポーネントとなっています。


当社の SiC コーティングサセプターの利点:

基材の保護: CVD SiC コーティングは、エピタキシャル プロセス中に保護層として機能し、外部環境による浸食や損傷から基材を効果的に保護します。この保護対策により、機器の耐用年数が大幅に延長されます。

優れた熱伝導性:当社のCVD SiCコーティングは優れた熱伝導性を有しており、基材の熱を効率よくコーティング表面に伝えます。これにより、エピタキシー中の熱管理効率が向上し、装置の最適な動作温度が確保されます。

膜品質の向上: CVD SiC コーティングは平坦で均一な表面を提供し、膜成長のための理想的な基盤を作り出します。これにより、格子不整合に起因する欠陥が減少し、エピタキシャル膜の結晶性と品質が向上し、最終的にはその性能と信頼性が向上します。

エピタキシャル ウェーハ製造のニーズに合わせて当社の SiC コーティング サセプタを選択すると、強化された保護、優れた熱伝導率、膜品質の向上によるメリットが得られます。 VeTek Semiconductor の革新的なソリューションを信頼して、半導体業界での成功を推進してください。


CVD SiC コーティングの基本物性:

CVD SiCコーティングの基本物性
財産 標準値
結晶構造 FCC β 相多結晶、主に (111) 配向
密度 3.21 g/cm3
硬度 ビッカース硬度 2500(500g荷重)
粒径 2~10μm
化学純度 99.99995%
熱容量 640J・kg-1・K-1
昇華温度 2700℃
曲げ強度 415MPa RT 4点
ヤング率 430 Gpa 4pt曲げ、1300℃
熱伝導率 300W・m-1・K-1
熱膨張(CTE) 4.5×10-6K-1


生産ショップ:


半導体チップのエピタキシー産業チェーンの概要:


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