結晶成長用炭化タンタルコーティングチューブ

VeTek Semiconductor は、中国の結晶成長用炭化タンタルコーティングチューブの大手メーカーおよびイノベーターです。当社は長年セラミックコーティングに特化してきました。当社の製品は高純度で高温耐性があります。お客様の長期的なパートナーになることを楽しみにしています。中国で。

お問い合わせを送信

製品説明

VeTek Semiconductor の結晶成長用のカスタマイズされた炭化タンタルコーティングチューブを安心して購入できます。ご協力をお待ちしております。詳しく知りたい場合は、今すぐご相談ください。すぐにご返信いたします。

VeTek Semiconductor は、物理蒸気輸送 (PVT) 法を使用した SiC 結晶成長用に特別に設計された結晶成長用タンタルカーバイドコーティングチューブを提供しています。 VeTek Semiconductor のグラファイトチューブは、CVD 炭化タンタルコーティングを施した高純度を特徴としており、SiC 結晶成長における最適なパフォーマンスを保証します。第 3 世代半導体として知られる SiC 結晶は、さまざまな用途で大きな可能性を秘めています。当社の結晶成長用タンタルカーバイドコーティングチューブを利用することで、研究者や業界専門家は効果的に SiC 成長を最適化し、高品質の SiC 結晶ブールを生産できます。研究や工業生産に携わっているかどうかにかかわらず、当社の製品は効率的な SiC 結晶成長のための信頼できるソリューションを提供します。

TaC コーティングされたグラファイトチューブに加えて、VeTek Semiconductor は、TaC コーティングされたリング、TaC コーティングされたるつぼ、TaC コーティングされた多孔質グラファイト、TaC コーティングされたグラファイトサセプター、TaC コーティングされたガイドリング、TaC タンタルカーバイドコーティングされたプレート、TaC コーティングリング、TaC コーティングされたグラファイトカバー、TaC コーティングされたもご提供しています。以下のような結晶成長炉用のチャンク:

PVT法SiC結晶成長

結晶成長用炭化タンタルコーティングチューブの製品パラメータ

TaCコーティングの物性
密度	14.3 (g/cm3)
比放射率	0.3
熱膨張係数	6.3 10-6/K
硬度（HK）	2000 香港
抵抗	1×10-5オーム*センチメートル
熱安定性	<2500℃
グラファイトのサイズ変化	-10~-20μm
膜厚	≥20um 代表値 (35um±10um)