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SiCウエハーボート

VeTek Semiconductor の SiC ウェーハボートは、非常に高性能な製品です。当社の SiC ウェーハボートは通常、ウェーハ上の温度を均一に分散させ、シリコンウェーハの処理品質を向上させるために半導体酸化拡散炉で使用されます。 SiC 材料の高温安定性と高い熱伝導率により、効率的で信頼性の高い半導体処理が保証されます。当社は高品質の製品を競争力のある価格で提供することに尽力しており、中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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SiCプロセスチューブ

VeTek Semiconductor は、半導体製造用の高性能 SiC プロセスチューブを提供しています。当社の SiC プロセスチューブは、酸化、拡散プロセスに優れています。優れた品質と職人技を備えたこれらのチューブは、効率的な半導体処理のための高温安定性と熱伝導性を提供します。当社は競争力のある価格を提供し、中国における長期的なパートナーとなることを目指しています。

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SiCカンチレバーパドル

VeTek Semiconductor の SiC カンチレバーパドルは、非常に高性能な製品です。当社のSiCカンチレバーパドルは、通常、シリコンウェーハのハンドリングや支持、化学気相成長（CVD）などの半導体製造プロセスにおける熱処理炉で使用されます。 SiC 材料の高温安定性と高い熱伝導率により、半導体処理プロセスにおける高い効率と信頼性が保証されます。当社は高品質の製品を競争力のある価格で提供することに尽力しており、中国におけるお客様の長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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ALD 遊星サセプター

ALDプロセスとは、Atomic Layer Epitaxyプロセスを意味します。 Vetek Semiconductor と ALD システムメーカーは、基板上に気流を均一に分配する ALD プロセスの高い要件を満たす、SiC コーティングされた ALD プラネタリサセプタを開発および製造しました。同時に、Vetek Semiconductor の高純度 CVD SiC コーティングにより、プロセスの純度が保証されます。私たちとの協力について話し合うことを歓迎します。

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TaCコーティングガイドリング

VeTek Semiconductor の TaC コーティングガイドリングは、化学蒸着 (CVD) と呼ばれる高度な技術を使用してグラファイト部品に炭化タンタルコーティングを施すことによって作成されます。この方法は十分に確立されており、優れたコーティング特性を提供します。 TaCコーティングガイドリングを活用することで、黒鉛部品の寿命を大幅に延長し、黒鉛不純物の移動を抑制し、SiCおよびAlN単結晶の品質を確実に維持することができます。お問い合わせを歓迎します。

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TaC コーティングされたグラファイトサセプター

VeTek Semiconductor の TaC コーティンググラファイトサセプタは、化学蒸着 (CVD) 法を使用してグラファイト部品の表面に炭化タンタルコーティングを作成します。このプロセスは最も成熟しており、最高のコーティング特性を備えています。 TaC コーティングされたグラファイトサセプターは、グラファイトコンポーネントの耐用年数を延ばし、グラファイト不純物の移動を抑制し、エピタキシーの品質を保証します。 VeTek Semiconductor はあなたのお問い合わせをお待ちしております。

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