VeTek Semiconductor の TaC コーティング グラファイト サセプタは、化学蒸着 (CVD) 法を使用してグラファイト部品の表面に炭化タンタル コーティングを作成します。このプロセスは最も成熟しており、最高のコーティング特性を備えています。 TaC コーティングされたグラファイト サセプターは、グラファイト コンポーネントの耐用年数を延ばし、グラファイト不純物の移動を抑制し、エピタキシーの品質を保証します。 VeTek Semiconductor はあなたのお問い合わせをお待ちしております。
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炭化タンタルセラミック材料の融点は最大3880℃で、融点が高く、化合物の化学的安定性が良好です。高温環境でも安定した性能を維持でき、さらに、高温耐性、耐化学腐食性、良好な化学的特性も備えています。炭素材料との機械的適合性やその他の特性により、理想的なグラファイト基材保護コーティング材料となります。炭化タンタルコーティングは、過酷な使用環境における高温のアンモニア、水素、シリコン蒸気、溶融金属の影響からグラファイトコンポーネントを効果的に保護し、グラファイトコンポーネントの耐用年数を大幅に延長し、グラファイト中の不純物の移動を抑制します。エピタキシーと結晶成長の品質を保証します。主に湿式セラミックプロセスで使用されます。
化学蒸着 (CVD) は、グラファイト表面に炭化タンタル コーティングを施すための最も成熟した最適な製造方法です。
コーティングプロセスでは、TaCl5 とプロピレンをそれぞれ炭素源とタンタル源として使用し、キャリアガスとしてアルゴンを使用して、高温ガス化後に五塩化タンタル蒸気を反応チャンバーに導入します。目標の温度と圧力下で、前駆体材料の蒸気がグラファイト部品の表面に吸着され、炭素源とタンタル源の分解や結合などの一連の複雑な化学反応が発生します。同時に、前駆体の拡散や副生成物の脱着などの一連の表面反応も伴います。最後に、グラファイト部品の表面に緻密な保護層が形成され、グラファイト部品が極端な環境条件下で安定しないように保護されます。黒鉛材料の応用シナリオが大幅に拡大します。
TaCコーティングの物性 | |
密度 | 14.3 (g/cm3) |
比放射率 | 0.3 |
熱膨張係数 | 6.3 10-6/K |
硬度(HK) | 2000 香港 |
抵抗 | 1×10-5オーム*cm |
熱安定性 | <2500℃ |
グラファイトのサイズ変化 | -10~-20μm |
膜厚 | ≥20um 代表値 (35um±10um) |