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CVD SiC コーティング天井

中国の専門的な CVD SiC コーティング天井のメーカーおよびサプライヤーとして、VeTek Semiconductor の CVD SiC コーティング天井は、高温耐性、耐食性、高硬度、低熱膨張係数などの優れた特性を備えており、半導体製造における理想的な材料の選択肢となっています。今後ともご協力をよろしくお願いいたします。

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VeTek Semiconductor は、中国における CVD SiC コーティングおよび TAC コーティングの大手メーカー、イノベーター、リーダーです。長年にわたり、当社はCVD SiCコーティングスカート、CVD SiCコーティングリング、CVD SiCコーティングキャリアなどのさまざまなCVD SiCコーティング製品に注力してきました。VeTek Semiconductorはカスタマイズされた製品サービスと満足のいく製品価格をサポートしており、お客様のさらなるご期待をお待ちしております。相談。

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CVD SiC コーティングバッフル

Vetek Semiconductor の CVD SiC コーティングバッフルは、主に Si エピタキシーで使用されます。通常はシリコンエクステンションバレルと一緒に使用されます。 CVD SiC コーティングバッフルの独自の高温と安定性を組み合わせ、半導体製造における気流の均一な分布を大幅に改善します。私たちは、当社の製品が高度な技術と高品質の製品ソリューションを提供できると信じています。

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CVD SiCグラファイトシリンダー

Vetek Semiconductor の CVD SiC グラファイトシリンダーは、半導体装置において極めて重要であり、高温高圧設定で内部コンポーネントを保護するリアクター内の保護シールドとして機能します。化学薬品や極度の熱から効果的に保護し、機器の完全性を維持します。優れた耐摩耗性と耐腐食性により、厳しい環境でも長寿命と安定性を保証します。これらのカバーを使用することで、半導体デバイスの性能が向上し、寿命が延長され、メンテナンスの必要性や損傷のリスクが軽減されます。お気軽にお問い合わせください。

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CVD SiC コーティングノズル

Vetek Semiconductor の CVD SiC コーティングノズルは、半導体製造中に炭化ケイ素材料を堆積するための LPE SiC エピタキシープロセスで使用される重要なコンポーネントです。これらのノズルは通常、過酷な処理環境での安定性を確保するために、高温で化学的に安定した炭化ケイ素素材で作られています。均一な堆積を実現するように設計されており、半導体アプリケーションで成長するエピタキシャル層の品質と均一性を制御する上で重要な役割を果たします。お客様との長期的な協力関係を構築できることを楽しみにしています。

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CVD SiC コーティングプロテクター

Vetek Semiconductor が提供する CVD SiC コーティングプロテクターは、LPE SiC エピタキシーを使用します。「LPE」という用語は、通常、減圧化学蒸着 (LPCVD) における低圧エピタキシー (LPE) を指します。半導体製造において、LPE は単結晶薄膜を成長させるための重要なプロセス技術であり、シリコンエピタキシャル層やその他の半導体エピタキシャル層の成長によく使用されます。その他のご質問がございましたら、お気軽にお問い合わせください。

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CVD SiC コーティング天井

CVD SiCコーティングスカート

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CVD SiCグラファイトシリンダー

CVD SiC コーティング ノズル

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