ウェハリフトピン

VeTek Semiconductor は、中国の大手 EPI ウェーハリフトピンメーカーおよびイノベーターです。当社は長年にわたりグラファイト表面への SiC コーティングを専門としています。当社では、エピプロセス用のEPIウェーハリフトピンを提供しています。高品質と競争力のある価格で、中国の工場を訪問することを歓迎します。

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製品説明

VeTek Semiconductor は、競争力のある価格と高品質の SiC コーティングおよび TaC コーティング材料を提供します。お問い合わせを歓迎します。

VeTek Semiconductor EPI ウェハリフトピンは、半導体製造用に特別に設計された重要なデバイスです。ウェーハを持ち上げて搬送し、製造中の安全性と安定性を確保するために使用されます。EPIプロセス用のSiCコーティングされたウェーハリフトピン、チップピン、予熱リングを提供します。

当社の EPI ウェーハリフトピンには、次の機能と利点があります。

高精度と安定性: 当社の EPI ウェーハリフトピンは高度なプロセスと材料を使用して、ウェーハを持ち上げて取り扱う際の高い精度と安定性を保証します。ウェーハを正確に位置決めして固定することができ、製造中のウェーハのズレや損傷を回避します。

安全性と信頼性: 当社の EPI ウェーハリフトピンは、優れた耐久性と信頼性を実現する高強度素材で製造されています。重量と圧力に耐えることができるため、取り扱い中にウェーハが損傷したり、誤って落下したりすることがありません。

自動化と効率: 当社の EPI ウェーハリフトピンは自律的に動作し、半導体製造装置とシームレスに統合できるように設計されています。ウェーハを迅速かつ正確に持ち上げて移動できるため、生産効率が向上し、手動操作の必要性が軽減されます。

互換性と適用性: 当社の EPI ウェーハリフトピンは、さまざまな直径や材質のウェーハを含む、幅広いサイズと種類のウェーハに適しています。さまざまな半導体製造装置やプロセスに対応し、さまざまな生産環境に適しています。

高品質で信頼性の高いサポート：当社は高品質で信頼性の高い製品を提供し、お客様に包括的なサポートとサービスを提供することに尽力しています。当社のウエハーリフトピンは、その性能と耐久性を保証するために厳格な品質管理とテストを受けています。

ウェーハ製造、半導体の研究開発、生産のいずれの分野においても、当社のウェーハリフトピンは信頼性の高いソリューションを提供します。当社のウェーハリフトピン製品の詳細については、お問い合わせください。輝かしい未来に向けて一緒に働き始めましょう。

CVD SiC コーティングの基本物性:

CVD SiCコーティングの基本物性
財産	標準値
結晶構造	FCC β 相多結晶、主に (111) 配向
密度	3.21 g/cm3
硬度	ビッカース硬度2500（500g荷重）
粒径	2～10μm
化学純度	99.99995%
熱容量	640J・kg-1・K-1
昇華温度	2700℃
曲げ強度	415MPa RT 4点
ヤング率	430 Gpa 4pt曲げ、1300℃
熱伝導率	300W・m-1・K-1
熱膨張(CTE)	4.5×10-6K-1