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中国 SiCエピタキシープロセス メーカー、サプライヤー、工場

VeTek Semiconductor の独自のカーバイド コーティングは、要求の厳しい半導体および複合半導体材料の処理のための SiC エピタキシー プロセスにおけるグラファイト部品に優れた保護を提供します。その結果、グラファイト部品の寿命が延長され、反応化学量論が維持され、エピタキシーや結晶成長用途への不純物の移動が抑制され、収率と品質が向上します。

当社の炭化タンタル (TaC) コーティングは、高温 (最大 2200°C) で重要な炉および反応器コンポーネントを高温のアンモニア、水素、シリコン蒸気、溶融金属から保護します。 VeTek Semiconductor は、お客様のカスタマイズされた要件を満たす幅広いグラファイト処理および測定機能を備えているため、お客様およびお客様の特定の用途に適したソリューションを設計する準備ができている専門エンジニアのチームとともに、有料のコーティングまたはフルサービスを提供できます。 。

化合物半導体結晶

VeTek Semiconductor は、さまざまなコンポーネントやキャリアに特殊な TaC コーティングを提供できます。 VeTek Semiconductor の業界をリードするコーティング プロセスを通じて、TaC コーティングは高純度、高温安定性、および高い耐薬品性を得ることができ、それにより結晶 TaC/GaN および EPl 層の製品品質が向上し、重要なリアクター コンポーネントの寿命が延長されます。

断熱材

るつぼ、シードホルダー、ディフレクター、フィルターなどの SiC、GaN、AlN 結晶成長コンポーネント。抵抗加熱素子、ノズル、シールド リング、ろう付け治具を含む工業用アセンブリ、ウェーハ キャリア、サテライト トレイ、シャワー ヘッド、キャップおよび台座を含む GaN および SiC エピタキシャル CVD リアクタ コンポーネント、MOCVD コンポーネント。


目的:

LED(発光ダイオード)ウエハキャリア

ALD(半導体)レシーバー

EPI受容体(SiCエピタキシープロセス)


SiC コーティングと TaC コーティングの比較:

SiC TaC
主な特徴 超高純度、優れた耐プラズマ性 優れた高温安定性(高温プロセス適合性)
純度 >99.9999% >99.9999%
密度 (g/cm 3) 3.21 15
硬度(kg/mm2) 2900-3300 6.7-7.2
抵抗率 [Ωcm] 0.1~15,000 <1
熱伝導率(W/m-K) 200-360 22
熱膨張係数(10-6/℃) 4.5-5 6.3
応用 半導体装置用セラミック治具(フォーカスリング、シャワーヘッド、ダミーウエハ) SiC単結晶育成、エピ、UV LED装置部品


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LPE用炭化タンタルコーティング半月部品

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VeTek Semiconductor は、中国の LPE メーカーおよびイノベーター向けの大規模な炭化タンタル コーティングされたハーフムーン部品です。当社は長年にわたり TaC コーティングに特化してきました。当社の製品は摂氏 2000 度を超える温度に耐えることができ、消耗品の寿命を延ばします。今後も期待しています。中国での長期的なパートナーになるために。

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炭化タンタルコーティングされた遊星回転ディスク

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VeTek Semiconductor は、中国のタンタルカーバイドコーティング遊星回転ディスクの大手メーカーおよびイノベーターです。当社は長年セラミックコーティングを専門としてきました。当社の製品は高純度で高温耐性があります。当社はお客様の長期パートナーになることを楽しみにしています。中国。

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中国の専門的な SiCエピタキシープロセス メーカーおよびサプライヤーとして、当社は独自の工場を持っています。お住まいの地域の特定のニーズを満たすためにカスタマイズされたサービスが必要な場合でも、高度で耐久性のある中国製の SiCエピタキシープロセス を購入したい場合でも、メッセージを残していただけます。
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