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炭化ケイ素セラミックコーティング
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炭化ケイ素セラミックコーティング

中国の炭化ケイ素セラミック コーティングの専門メーカーおよびサプライヤーとして、Vetek Semiconductor の炭化ケイ素セラミック コーティングは、特に CVD および PECVD プロセスが関与する場合、半導体製造装置の主要コンポーネントに広く使用されています。お問い合わせを歓迎します。

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製品説明

ヴェテックセミコンダクター 炭化ケイ素セラミックコーティングは、非常に硬く耐摩耗性の高い炭化ケイ素 (SiC) 材料で作られた高性能保護コーティングで、優れた耐化学腐食性と高温安定性を備えています。これらの特性は半導体製造において非常に重要であるため、炭化ケイ素セラミック コーティングは半導体製造装置の主要コンポーネントに広く使用されています。


半導体製造において Vetek Semiconductor 炭化ケイ素セラミック コーティングが果たす具体的な役割は、次のように:

装備の耐久性を強化する: 炭化ケイ素セラミックコーティングは、非常に高い硬度と耐摩耗性により、半導体製造装置の優れた表面保護を提供します。特に、化学気相成長 (CVD) やプラズマ エッチングなどの高温で腐食性の高いプロセス環境では、炭化ケイ素セラミック コーティングは化学的浸食や物理的磨耗による機器表面の損傷を効果的に防止し、それによって機器の耐用年数を大幅に延長します。頻繁な交換やメンテナンスによって生じるダウンタイムを削減します。

プロセスの純度を向上させる:半導体製造工程においては、微小な汚れが製品不良の原因となることがあります。炭化ケイ素セラミックコーティングの化学的不活性により、極端な条件下でも安定した状態を保ち、材料から粒子や不純物が放出されるのを防ぎ、プロセス中の環境の純度を確保します。これは、PECVD やイオン注入など、高精度と高清浄度が必要な製造ステップでは特に重要です。

熱管理を最適化する:急速熱処理(RTP)や酸化プロセスなどの高温半導体処理において、炭化ケイ素セラミックコーティングの高い熱伝導率により、装置内の均一な温度分布が可能になります。これにより、温度変動による熱応力や材料の変形が軽減され、製品の製造精度と一貫性が向上します。

複雑なプロセス環境をサポート: ICPエッチングプロセスやPSSエッチングプロセスなど、複雑な雰囲気制御が必要なプロセスにおいて、炭化ケイ素セラミックコーティングヒーターの安定性と耐酸化性により、長期稼働においても装置の安定した性能が保証され、材料や装置の劣化のリスクが軽減されます。環境の変化によるダメージ。

ヴェテックセミコンダクター高性能の製造と供給に重点を置いています炭化ケイ素セラミックコーティング、半導体業界に高度な技術と製品ソリューションを提供することに尽力しています。私たちは中国におけるあなたの長期的なパートナーになることを心から願っています.


基本物性炭化ケイ素セラミックコーティング:



VeTek Semiconductor 炭化ケイ素セラミック コーティング ショップ:


半導体チップエピタキシー産業チェーンの概要:

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