TaCコーティングヒーター

VeTek Semiconductor は、中国の TaC コーティングヒーターの大手メーカーおよびイノベーターです。この製品は非常に高い融点（約3880℃）を持っています。 TaC コーティングヒーターは融点が高いため、特に有機金属化学気相成長 (MOCVD) プロセスにおける窒化ガリウム (GaN) エピタキシャル層の成長において、非常に高い温度で動作することができます。 VeTek Semiconductor は、半導体業界に高度な技術と製品ソリューションを提供することに尽力しています。私たちは、お客様の中国における長期的なパートナーとなることを楽しみにしています。

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製品説明

TaCコーティングヒーターは、半導体製造工程で広く使用されている高性能発熱体です。表面は炭化タンタル（TaC）素材でコーティングされており、耐高温性、耐薬品性、熱伝導性に優れています。

半導体製造における TaC コーティングヒーターの主な用途は次のとおりです。

窒化ガリウム (GaN) エピタキシャル成長プロセス中、TaC コーティングヒーターは正確に制御された高温環境を提供し、エピタキシャル層が均一な速度と高品質で基板上に堆積されることを保証します。安定した熱出力により、薄膜材料の正確な制御が可能になり、デバイスのパフォーマンスが向上します。

さらに、有機金属化学気相成長 (MOCVD) プロセスでは、TaC コーティングの耐高温性と熱伝導性と組み合わせて、通常、TaC コーティングヒーターを使用して反応ガスを加熱し、均一な熱分布を提供することで反応ガスの加熱を促進します。基板表面での化学反応によりエピタキシャル層の均一性が向上し、高品質な膜が形成されます。

TaC コーティングヒーター製品の業界リーダーとして、VeTek Semiconducto は常に製品のカスタマイズサービスと満足のいく製品価格をサポートします。お客様の具体的な要件が何であれ、当社はお客様の TaC コーティングヒーターのニーズに最適なソリューションをご提案いたしますので、いつでもご相談をお待ちしております。

TaCコーティングヒーターの基本物性：

TaCコーティングの物性
密度	14.3 (g/cm3)
比放射率	0.3
熱膨張係数	6.3 10-6/K
硬度（HK）	2000 香港
抵抗	1×10-5オーム*cm
熱安定性	<2500℃
グラファイトのサイズ変化	-10~-20μm
膜厚	≥20um 代表値 (35um±10um)