TaC コーティングプラネタリーサセプター

VeTek Semiconductor の TaC コーティングプラネタリーサセプタは、Aixtron エピタキシー装置にとって優れた製品です。堅牢な TaC コーティングは、優れた高温耐性と化学的不活性性を提供します。この独自の組み合わせにより、要求の厳しい環境でも信頼性の高いパフォーマンスと長い耐用年数が保証されます。 VeTek は高品質の製品を提供し、競争力のある価格で中国市場の長期パートナーとして機能することに尽力しています。

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製品説明

半導体製造の分野では、TaC コーティングプラネタリーサセプターが重要な役割を果たします。 Aixtron G5 システムなどの装置での炭化ケイ素 (SiC) エピタキシャル層の成長に広く使用されています。さらに、SiC エピタキシー用の炭化タンタル (TaC) コーティング堆積でアウターディスクとして使用すると、TaC コーティングプラネタリーサセプターは不可欠なサポートと安定性を提供します。これにより、炭化タンタル層の均一な堆積が保証され、優れた表面形態と所望の膜厚を備えた高品質のエピタキシャル層の形成に貢献します。 TaC コーティングの化学的不活性により、望ましくない反応や汚染が防止され、エピタキシャル層の完全性が維持され、その優れた品質が保証されます。

TaC コーティングの優れた熱伝導率により、効率的な熱伝達が可能になり、均一な温度分布が促進され、エピタキシャル成長プロセス中の熱応力が最小限に抑えられます。これにより、結晶学的特性が改善され、導電性が向上した高品質の SiC エピタキシャル層が生成されます。

TaC コーティング遊星ディスクの正確な寸法と堅牢な構造により、既存のシステムへの統合が容易になり、シームレスな互換性と効率的な動作が保証されます。その信頼性の高い性能と高品質の TaC コーティングは、SiC エピタキシープロセスにおける一貫した均一な結果に貢献します。

SiC エピタキシーにおける優れたパフォーマンスと信頼性を実現するには、VeTek Semiconductor と当社の TaC コーティング遊星ディスクを信頼してください。当社の革新的なソリューションの利点を体験して、半導体業界の技術進歩の最前線に立つことができます。

当社が提供する TaC コーティングおよび SiC コーティングのスペアパーツ:

TaC コーティング遊星サセプタの製品パラメータ:

TaCコーティングの物性
密度	14.3 (g/cm3)
比放射率	0.3
熱膨張係数	6.3 10-6/K
硬度（HK）	2000 香港
抵抗	1×10-5オーム*cm
熱安定性	<2500℃
グラファイトのサイズ変化	-10~-20μm
コーティングの厚さ	≥20um 代表値 (35um±10um)