TaCコーティングプレート

TaC コーティング プレートは、当社の工場から安心してご購入いただけます。当社の TaC コーティング プレートは、半導体エピタキシー リアクターの重要な部分として機能し、優れたエピタキシャル層の収率と成長効率に役立ちます。製品の品質を向上させます。

有機金属化学気相成長法（MOCVD）による第3主族窒化物エピタキシャルシート（GaN）の作製や、化学気相法によるSiCエピタキシャル成長膜の作製など、ますます過酷な作製環境での新規半導体の製造向け堆積（CVD）は、高温環境では H2 や NH3 などのガスによって侵食されます。既存の成長キャリアまたはガスチャネルの表面にある SiC および BN 保護層は、化学反応に関与して機能しなくなる可能性があり、結晶や半導体などの製品の品質に悪影響を及ぼします。したがって、結晶や半導体などの製品の品質を向上させるための保護層として、より化学的安定性と耐食性の優れた材料を見つける必要があります。炭化タンタルは強力な化学結合の役割により優れた物理的および化学的特性を持ち、その高温化学安定性と耐食性はSiC、BNなどよりもはるかに高く、耐食性、熱安定性の優れたコーティングの優れた用途の見通しです。 。

VeTek Semiconductor は、高度な生産設備と完璧な品質管理システム、バッチ単位での TaC コーティングの性能の一貫性を確保するための厳格なプロセス制御を備えており、大量の供給で顧客のニーズを満たす大規模な生産能力、完璧な品質監視を備えています。各製品の品質を安定かつ信頼できるものにするための仕組み。

TACコーティングプレートの製品パラメーター：

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