TaCコーティング回転サセプタ
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TaCコーティング回転サセプタ

中国におけるTaCコーティング回転サセプター製品の専門メーカー、革新者、リーダーとして。 VeTek Semiconductor TaC コーティング回転サセプタは、通常、化学蒸着 (CVD) および分子線エピタキシー (MBE) 装置に取り付けられ、ウェーハを支持して回転させ、均一な材料堆積と効率的な反応を保証します。半導体プロセスの重要なコンポーネントです。さらなるご相談を歓迎いたします。

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製品説明

VeTek Semiconductor TaC コーティング回転サセプターは、半導体プロセスにおけるウェーハハンドリングの重要なコンポーネントです。そのTaC株式会社私たちの優れた高温耐性(融点3880℃)、化学的安定性、耐食性を備え、ウェーハ加工における高精度・高品質を実現します。


TaC コーティング回転サセプタ (タンタル カーボン コーティング回転サセプタ) は、半導体プロセスで使用される重要な装置コンポーネントです。通常は次の場所にインストールされます化学蒸着 (CVD)分子線エピタキシー (MBE) 装置は、ウェーハを支持して回転させ、均一な材料の堆積と効率的な反応を保証します。このタイプの製品は、基板をコーティングすることにより、高温および腐食環境における機器の耐用年数と性能を大幅に向上させます。タンタルカーボン (TaC) コーティング.


TaCコーティング回転サセプタは通常、TaCコーティングと基板材料としてのグラファイトまたは炭化ケイ素で構成されています。 TaCは、極めて高い融点(融点最高3880℃)、硬度(ビッカース硬度は約2000HK)、耐化学腐食性に優れた超高温セラミック材料です。 VeTek Semiconductor は、CVD 技術を通じて基板材料上のタンタル炭素コーティングを効果的かつ均一に覆うことができます。

回転サセプタは通常、熱伝導率が高く強度の高い材料(グラファイトまたは炭化ケイ素)、高温環境において良好な機械的サポートと熱安定性を提供できます。この 2 つの完璧な組み合わせによって、ウェーハの支持と回転における TaC コーティング回転サセプタの完璧な性能が決まります。


TaC コーティング回転サセプタは、CVD プロセスでウェーハを支持し、回転させます。 TaC のビッカース硬度は約 2000 HK であり、これにより材料の繰り返しの摩擦に耐え、良好な支持役割を果たし、それによって反応ガスがウェーハ表面に均一に分布し、材料が均一に堆積されることが保証されます。同時に、TaC コーティングの高温耐性と耐食性により、高温で腐食性の雰囲気で長期間使用できるため、ウェーハやキャリアの汚染を効果的に回避できます。


また、TaCの熱伝導率は21W/m・Kと熱伝導が良好です。したがって、TaC コーティング回転サセプタは、高温条件下でウェーハを均一に加熱し、回転運動を通じてガス蒸着プロセスの均一性を確保し、それによって一貫性と高品質を維持することができます。ウェーハの成長.


微細断面に炭化タンタル(TaC)コーティング

Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 2Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 3Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 4


TaCコーティングの物性


TaCコーティングの物性
密度
14.3 (g/cm3)
比放射率
0.3
熱膨張係数
6.3*10-6/K
硬度(HK)
2000 香港
抵抗
1×10-5オーム*センチメートル
熱安定性
<2500℃
グラファイトのサイズ変更
-10~-20μm
膜厚
≥20um 代表値 (35um±10um)



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