VeTek Semiconductor は超高純度の炭化ケイ素コーティング製品の製造を専門とし、これらのコーティングは精製グラファイト、セラミック、高融点金属コンポーネントに適用されるように設計されています。
当社の高純度コーティングは、主に半導体およびエレクトロニクス産業での使用をターゲットとしています。これらは、ウェーハ キャリア、サセプタ、および加熱要素の保護層として機能し、MOCVD や EPI などのプロセスで遭遇する腐食性および反応性環境からそれらを保護します。これらのプロセスは、ウェーハ処理とデバイス製造に不可欠です。さらに、当社のコーティングは、高真空、反応性、酸素環境にさらされる真空炉やサンプル加熱での用途に適しています。
VeTek Semiconductor では、高度な機械工場の機能を備えた包括的なソリューションを提供します。これにより、グラファイト、セラミック、または高融点金属を使用して基本コンポーネントを製造し、社内で SiC または TaC セラミック コーティングを適用することが可能になります。また、お客様支給部品の塗装サービスも行っており、多様なニーズに柔軟に対応いたします。
当社の炭化ケイ素コーティング製品は、Siエピタキシー、SiCエピタキシー、MOCVDシステム、RTP/RTAプロセス、エッチングプロセス、ICP/PSSエッチングプロセス、青色および緑色LED、UV LED、深紫外を含むさまざまなタイプのLEDのプロセスで広く使用されています。 LPE、Aixtron、Veeco、Nuflare、TEL、ASM、Annialsys、TSIなどの機器に適合するLEDなど。
CVD SiCコーティングの基本物性 | |
財産 | 代表値 |
結晶構造 | FCC β 相多結晶、主に (111) 配向 |
密度 | 3.21 g/cm3 |
硬度 | ビッカース硬度 2500(500g荷重) |
粒径 | 2~10μm |
化学純度 | 99.99995% |
熱容量 | 640 J·kg-1·K-1 |
昇華温度 | 2700℃ |
曲げ強度 | 415MPa RT 4点 |
ヤング率 | 430 Gpa 4pt曲げ、1300℃ |
熱伝導率 | 300W・m-1・K-1 |
熱膨張(CTE) | 4.5×10-6K-1 |
Vetek Semiconductor は、CVD SiC コーティングと CVD TaC コーティングの研究開発と工業化に重点を置いています。 MOCVDサセプタを例にとると、製品は高精度、緻密なCVD SICコーティング、高温耐性、強力な耐食性で高度に加工されています。弊社へのお問い合わせは大歓迎です。
続きを読むお問い合わせを送信VeTek Semiconductor は、LPE シリコン エピタキシャル反応チャンバー用のコンポーネント ソリューションの包括的なセットを提供し、長寿命、安定した品質、エピタキシャル層の歩留まり向上を実現します。 SiCコーティングバレルサセプタなどの当社製品は、お客様から位置のフィードバックをいただきました。 Siエピ、SiCエピ、MOCVD、UV-LEDエピタキシーなどの技術サポートも行っております。価格情報についてはお気軽にお問い合わせください。
続きを読むお問い合わせを送信炭化ケイ素および炭化タンタルコーティングの国内トップメーカーとして、VeTek Semiconductor は、SiC コーティングされたエピサセプターの精密機械加工と均一なコーティングを提供し、コーティングと製品の純度を 5ppm 以下に効果的に制御することができます。製品寿命はSGLと同等です。お問い合わせお待ちしております。
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